株式会社RSテクノロジーズとの産学連携協定調印式と方永義奨学優秀賞授与式を開催

調印をした倉林学長（左）と方代表

奨学金を授与された学生たちと方代表

株式会社RSテクノロジーズ（東京都品川区）との産学連携協定調印式と方永義奨学優秀賞授与式を4月9日東京紀尾井町キャンパス 3号棟5階 国際会議場にて開催しました。株式会社RSテクノロジーズ 方永義 代表取締役と本学 倉林眞砂斗学長、当奨学金授与者の5名を含む国際アドミニストレーション研究科の教員・学生、約60名が参加しました。

株式会社RSテクノロジーズ 方永義 代表は1992年の本学開学時からの1期生であり、2023年には経営情報学研究科を修了して、本学で博士号まで取得されています。2010年に株式会社RSテクノロジーズを創業。再生ウェーハおよびプライムウェーハの事業を拡大し、2015年には東京証券取引所に上場しました。現在、日本、台湾、中国にウェーハの生産拠点を擁し、世界の主要な半導体メーカーを顧客としています。再生ウェーハで世界市場シェアトップの、我が国を代表する企業です。

今回、このようなご縁もあり、M&Aに関する研究支援と、スタートアップと事業会社の共創を担う人材育成を目的として、産学連携協定を締結することとなりました。

また方永義奨学金は、方代表からの寄附金を原資に、今年で７年目の授与となります。

当奨学金は国際アドミニストレーション研究科に在籍する、日本文化が好きで日本と母国双方の利益のために行動できる成績優秀な大学院留学生に授与されます。

学生たちにことばを送る方代表

方代表は「この日本という素晴らしい国で勉強、吸収したことを、皆様の母国に持ち帰って形にし、日本との友好のために頑張っていただきたい」と大学院生の今後の活躍に期待を寄せていました。