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第1回「方 永義奨学優秀賞」授与式


2017年11月9日(木)紀尾井町キャンパスにて、第1回「方 永義奨学優秀賞」授与式を行いました。

授与式に先立ちまして、大島卓研究科長より賞を誕生した経緯が説明されました。「方氏は株式会社RSテクノロジーという会社の社長です。同社は2010年に設立されたシリコンウエハー再生事業で世界ナンバーワンのIT企業です。そして強調しておきたい点は、方氏が城西国際大学大学院人文科学研究科の修了生であり、当時から親交のあった本研究科の栗木レタンギエップ教授との長い良好な師弟関係がベースとなり、本奨学金が誕生したのです。また、方社長が本奨学金の創設に込めた思いは、第一に成績優秀であること、第二に留学生であること、第三に日本文化が好きであること、そして第四に日本と自国双方の利益のために行動できる人であること」と紹介されました。

選抜された10名は、事前書類審査、面接を経て、人物と学業が共に優れた院生として、表彰状が大島研究科長より手渡されました。受賞者は、これを契機にさらに研鑽を深め、研究に邁進するとの意気込みを語るとともに、方永義奨学優秀賞に相応しい人物として、より高いレベルの研究を今後続けていくと抱負を述べました。

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